• HOME
  • 產品介紹
  • 半導體材料(前段)
半導體製造

g-Line Resist

TOK g線光阻
TOK製造436nm波長膜厚1um到7um用g線光阻，同時也在g線上製造正負型光阻，所有g線光阻均以日本廠房機台製造。如果有專案需要尋找g線光阻，請與我們洽詢，我們會提供詳細產品資訊。
半導體製造

i-Line Resist

TOK i線光阻
TOK製造365nm波長膜厚0.3um到7um用i線光阻，同時也在i線上製造正負型光阻，所有i線光阻以美國與日本廠房機台製造。如果有專案需要尋找i線光阻，請與我們洽詢，我們會提供詳細產品資訊
半導體製造

KrF Resist

TOK KrF光阻
TOK製造248nm波長膜厚0.3um到3um用i線光阻，同時也在KrF線上製造正負型光阻，所有KrF線光阻以台灣與日本廠房機台製造。如果有專案需要尋找KrF光阻，請與我們洽詢，我們會提供詳細產品資訊。
半導體製造

ArF Resist

TOK ArF光阻
TOK製造193nm波長用i線光阻，提供廣泛產品與服務，同時以日本廠房ArF與ArF浸入式機台製造正負型光阻。如果有專案需要尋找ArF與ArF浸入式光阻，請與我們洽詢，我們會提供詳細產品資訊。
半導體製造

EUV Resist

EUV光阻
TOK正與SEMATECH和其他領導業者合作，以供應多種能夠符合不同EUV光阻所需之產品，同時還以該技術持續領先業界。關於更多EUV光阻資訊，請與本公司聯繫。