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半导体制造
g-Line Resist
TOK g线光阻
TOK制造436nm波长膜厚1um到7um用g线光阻,同时也在g在线制造正负型光阻,所有g线光阻均以日本厂房机台制造。如果有项目需要寻找g线光阻,请与我们洽询,我们会提供详细产品信息。
半导体制造
i-Line Resist
TOK i线光阻
TOK制造365nm波长膜厚0.3um到7um用i线光阻,同时也在i在线制造正负型光阻,所有i线光阻以美国与日本厂房机台制造。如果有项目需要寻找i线光阻,请与我们洽询,我们会提供详细产品信息。
半导体制造
KrF Resist
TOK KrF光阻
TOK制造248nm波长膜厚0.3um到3um用i线光阻,同时也在KrF在线制造正负型光阻,所有KrF线光阻以台湾与日本厂房机台制造。如果有项目需要寻找KrF光阻,请与我们洽询,我们会提供详细产品信息。
半导体制造
ArF Resist
TOK ArF光阻
TOK制造193nm波长用i线光阻,提供广泛产品与服务,同时以日本厂房ArF与ArF浸入式机台制造正负型光阻。如果有项目需要寻找ArF与ArF浸入式光阻,请与我们洽询,我们会提供详细产品信息。
半导体制造
EUV Resist
EUV光阻
TOK正与SEMATECH和其他领导业者合作,以供应多种能够符合不同EUV光阻所需之产品,同时还以该技术持续领先业界。关于更多EUV光阻信息,请与本公司联系。